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產品名稱】1200℃回轉可傾管式爐 【爐管尺寸】φ25--φ120mm 【加熱區】300mm 【額定溫度】1200℃ 【電源電壓】AC220V/50Hz 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】1200℃回轉可傾管式爐額定工作溫度1100℃，主要用于實驗室粉末物料的高溫熱處理，可在真空或者保護氣氛下使用，電驅動爐管可旋轉，轉速可調，回轉燒結物料會非常均勻的受熱；底部裝有電動升降裝置，可使
【產品名稱】1200℃回轉管式爐 【爐管尺寸】φ25--φ120mm 【加熱區】300mm 【額定溫度】1200℃ 【電源電壓】AC220V/50Hz 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】1200℃回轉管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業等行業實驗室高溫熱處理工藝，適用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域。
【產品名稱】1400℃-CVD管式爐 【爐管尺寸】φ25--φ120mm 【加熱區】300mm 【額定溫度】1400℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業中用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數金屬材料和金屬合金材料。
【產品名稱】1200℃-CVD梯度管式爐 【爐管尺寸】φ25--φ120mm 【加熱區】300mm+300mm 【額定溫度】1200℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數金屬材料和金屬合金材料。
【產品名稱】1700℃-CVD管式爐 【爐管尺寸】φ25--φ120mm 【加熱區】300mm 【額定溫度】1700℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數金屬材料和金屬合金材料。
【產品名稱】1200℃-PECVD管式爐系統 【爐管尺寸】φ40--φ100mm 【加熱區】300mm/440mm 【額定溫度】1200℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】PECVD系統（等離子增強化學氣相沉積系統）由管式爐、真空獲得、流量控制和射頻電源四大模塊組成。
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